2013年9月，上海微电子装备有限公司（以下简称“上微”）到台湾参加半导体展。这预示着上微300系列光刻机正式进军LED产业，多款光刻机实现产业化，似乎近在眼前了。

集成电路制造光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，其研发对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。在此领域，一些发达国家早已“虎踞龙盘”抢占战略竞争优势。然而，十多年前，我国的光刻机技术还犹如一张白纸，一切都得从零开始。

随着国内集成电路产业的发展，科技部决定将此设立为“十五”科技重大专项。国家863计划中，光刻机成为首个以企业为主导开展研究的重大项目。2002年3月，上海微电子装备有限公司成立。十年后，从“无”到“有”，上微已经具备了高端光刻机的系统设计与集成测试的能力，掌握了光刻机多项核心关键技术，并拥有了这一领域的多项自主知识产权，成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后的第4家掌握高端光刻机的系统设计与系统集成测试技术的公司。

2009年下半年，首台先进封装光刻机实现了销售并上用户生产线运行，设备性能稳定，得到了客户较高的评价和认同，目前已形成了量产供货能力。2013年8月，首台用于2.5代生产线的新型显示光刻机正式上线。目前，上微已占据国内先进封装光刻机市场80%的份额，并迫使国际竞争对手大幅降低了产品价格。此外，2010年，上微还与上海大学展开合作，SSB200/10 OLED研发光刻机生产出自主知识产权的1.6英寸OLED显示屏，将国产光刻设备用于平板显示领域，在国内实现了零的突破。

上微总经理贺荣明表示：“从制造型国家到创新型国家转型，就必须实现能级的跃迁，抢占产业生态链的高端。”以国家战略需求为导向，政府大胆决策，稳定支持，以企业为纽带，聚合产学研用创新资源，让企业成为技术创新的“主角”，这便是光刻机研制过程中的创新实践经验。